ごあいさつ

 未来材料 ・システム研究所の附属研究施設である先端技術共同研究施設は,昭和63年に名古屋大学における産官学との共同研究を行うための先端技術共同研究センターとして設立されました。平成3年には,426平米の大型のクリーンルームが完成し,半導体をはじめとする先端的な材料研究とデバイス開発を行うための施設や装置群が順次整備されてきました。現在は,各種の薄膜形成装置から,ナノメートルレベルの微細加工設備や分析機器を備え,半導体,誘電体,磁性体などさまざまの材料開発,また,これらの材料を利用したマイクロ/ナノデバイスの研究開発,材料やデバイスの分析と評価など,先端的な研究を行うための共同利用拠点として,広く学内外の研究者に利用いただいております。また,平成24年度からは,文部科学省の微細加工ナノテクノロジープラットフォーム事業を推進しており,技術相談,機器の利用,共同研究,技術代行など幅広い技術支援を行っておりますので,本施設の支援や利用を希望される場合には,ぜひ,お問い合わせ下さるようお願いいたします。

 

未来材料 ・システム研究所・先端技術共同研究施設
施設長 岩田 聡

 

 

 

 

電話: 052-789-5465

受付時間: 平日 AM 9:00 〜 PM 4:00